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| 品牌 | HUACE/米兰app下载并安装 | 應用領域 | 綜合 |
|---|
米兰app下载并安装 高真空退火爐
設備原理：
1. 輻射加熱
紅外鍍金聚焦爐是利用高能量密度的紅外光源作為(wei) 加熱源的輻射加熱爐。爐體(ti) 由鋁合金製成，紅外線反射麵拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。
2. 紅外線燈
紅外鍍金聚焦爐是利用高能量密度的紅外光源作為(wei) 加熱源的輻射加熱爐。爐體(ti) 由鋁合金製成，紅外線反射麵拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。
3. 反射光
反射鏡是用曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩(liang) 種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e係列有一個(ge) 橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS係列具有拋物線型反射器和適用於(yu) 片狀樣品。
設備特點
1. 高速加熱與(yu) 冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時體(ti) 可配置水冷，增設氣體(ti) 冷卻裝置，可實現快速冷卻。
2. 溫度控製
通過紅外鍍金聚焦和溫度控製器的組合使用，可以控製樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供。
3. 清潔加熱
反射鏡是用曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩(liang) 種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e係列有一個(ge) 橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS
4. 不同環境下的加熱與(yu) 冷卻
米兰app下载并安装 高真空退火爐加熱/冷卻可用真空、氣氛環境，低溫（高純度惰性氣體(ti) 靜態或流動），操作簡單，使用石英玻璃製成。紅外線可傳(chuan) 送到加熱/冷卻室。
設備結構：
序號 | 項目 | 數量 | 品牌 | 備注 |
1 | 爐體(ti) | 1 | 華測 | 溫度1200℃ |
2 | 加熱源 | 1 | GE（） | |
3 | 溫度控製器 | 1 | 華測 | |
4 | 電熱偶 | 1 | omega | |
5 | 溫控表 | 1 | 歐姆龍（） | |
6 | 穩壓電源 | 1 | 華測 | 可定製 |
7 | 製冷水機 | 1 | 同飛 | 製冷功率8KW |
8 | 分子泵 | 1 | 萊寶（） | CF法蘭(lan) ，抽速≥40L/s，極限真空度優(you) 於(yu) -0.8Mpa |
反射爐溫度控製裝置：
高速升溫時，配套的快速反應的控製裝置，本控製裝置采用可編程溫度控製器。高設計，響應速度快。
可選配置：
（1）幹栗：抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小於(yu) 52db;
（2）全量程真空規：刀口法蘭(lan) 接口，真空測量範圍5X10-7Pa到1atm;
（3）為(wei) 了高速加熱、設備采用PID溫度控製，同時采用移相觸發技術保證試驗溫度；
（4）根據設備上的溫度控製器輸入參數，您也可以簡單輸入溫度程序設定和外部信號。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數據；
（5）自適應熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型；
（6）可設定32個(ge) 程序、256個(ge) 步驟的程序；
（7）30A、60A、120A內(nei) 置了 SCR電路，所以範圍很廣。
多應用：
樣品腔內(nei) 徑：≥30mm； 退火爐外徑：≤100mm
電子材料 | 半導體(ti) 用矽化合化的PRA (加熱後急速冷卻） |
熱源薄膜形成 | |
離子注入後 | |
矽化物的形成 | |
陶瓷與(yu) 無機材料 | 陶瓷基板退火爐 |
玻璃基板退火爐 | |
鋼鐵和金屬材料 | 薄鋼板加熱過程的數值模擬 |
爐焊接模擬 | |
高真空熱處理（1000°c以下） | |
大氣氣體(ti) 熔化過程 | |
壓力下耐火鋼和合金的熱循環試驗爐 | |
複合材料 | 耐熱性評價(jia) 爐 |
無機複合材料熱循環試驗爐 | |
其他 | 高溫拉伸壓縮試驗爐 |
分段分區控製爐 | |
溫度梯度爐 | |
爐氣分析 | |
超導陶瓷退火爐 |
米兰app下载并安装 高真空退火爐 測試儀(yi) 器
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