產(chan) 品介紹
目前高溫退火爐加熱大都為(wei) 管式爐或馬弗爐,原理為(wei) 加熱絲(si) 或矽碳棒對爐體(ti) 加熱,加熱與(yu) 降溫速度慢,效率低下,也無法實現溫度的測量,加熱區域也存在不均勻的現象,足球竞彩国际米兰结果通過多年研究開發了一種可實現,高反射率的拋物麵與(yu) 高質量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時,具有良好的溫度分布。可實現寬域均熱區,高速加熱、高速冷卻,用石英管保護加熱式樣,無氣氛汙染。可在高真空,高出純度氣體(ti) 中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐,是一種目前較為(wei) 理想的真高空退火爐。
它提高了加熱試驗能力.同電阻爐和其他爐相比,紅外線反射退火爐節省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間,再試驗中也可改寫(xie) 設定溫度值。從(cong) 各方麵講,都節省時間並提高實驗速度。
同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單,有冷卻係統可靠。以提高試驗人員的工作效率,實現全溫度控製操作!
反射爐溫度控製裝置
高速升溫時,配套的快速反應的高真空退火爐控製裝置,本控製裝置采用可編程溫度控製器。高設計,響應速度快。
可選配
幹泵:抽速≥120L/min,極限真空度≤4pa,噪音小於(yu) 52db;
全量程真空規:刀口法蘭(lan) 接口,真空測量範圍5X10-7Pa到1atm;為(wei) 了高速加熱、設備采用PID溫度控製,同時采用移相觸發技術保證試驗溫度。根據設備上的溫度控製器輸入參數,您也可以簡單輸入溫度程序設定和外部信號。另外還可以在電腦上顯示熱中的溫度數據。自適應熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型
至多可設定32個(ge) 程序、256個(ge) 步驟的程序。
30A、60A、120A內(nei) 置了SCR電路,所以範圍很廣。
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